超狂！EUV技術再助攻 台積電2奈米最新進度曝光

評析：還2奈米ㄌㄟ，皮米(picometer，奈米的千分之一)都早在研究了！

EUV的關鍵在反射鏡，而反射鏡的專家就是德國蔡司。為此，ASML早在2016年就入股蔡司，目的就是要取得蔡司的助力。而蔡司的技術已經可以進入皮米了！因此進入皮米製程應該是不久的事了。

超狂！EUV技術再助攻 台積電2奈米最新進度曝光
2020/04/22 中時電子報 呂承哲

全球晶圓代工龍頭台積電面對新冠肺炎疫情肆虐，客戶出貨需求恐怕大減的情況下衝擊，仍繳出歷年來第一季最好表現，台積電官網21日上架股東會年報，內容指出台積電去年市佔率達52%，年度總營收創10年來新高紀錄，還提到3奈米製程發展情況，2 奈米製程技術更是首度被提及。

年報內容提到，台積電7奈米製程技術(N7)在去年邁入量產的第2年，在行動裝置、高效能運算（HPC）、物聯網（IoT）和車用電子等眾多產品中持續被廣泛採用。台積電表示，去年推出的7 奈米強效版（N7+）製程技術亦領先，導入極紫外光（EUV）微影技術進行量產，整個N7家族營收佔全年晶圓銷售金額的27%。

至於6 奈米（N6）製程技術剛於今年第一季進入試產階段，並成功進一步擴展了N7 家族的未來性。5 奈米（N5）製程技術已廣泛採用EUV 技術，將於今年上半年開始量產。作為業界最先進的解決方案，N5 製程技術已進一步擴大台積電的客戶產品組合，同時擴增潛在市場。

至於為外界所關注的3奈米製程，將是繼N5 後另一全節點提升的製程，並將於推出時提供業界最佳的功耗、效能以及面積（PPA）的製程技術。

此外，台積電也提到，當公司採用三維(3D)晶片堆疊解決方案研發3奈米製程之際，也在去年就領先半導體業界進行2 奈米製程技術開發，並針對2 奈米以下製程繼續探索性研究。

台積電表示，透過微影技術，去年研發重點在於5 奈米的技術轉移、3 奈米技術的開發及2 奈米以下技術開發的先期準備。5 奈米技術已經順利地移轉，研發單位與晶圓廠合作排除極紫外光（EUV）微影量產問題。針對3 奈米技術的開發， EUV技術展現優異的光學能力，與符合預期的晶片良率，研發單位正致力於EUV技術，以減少曝光機光罩缺陷及製程堆疊誤差，並降低整體成本。

台積電表示，今年在2 奈米及更先進製程上將著重於改善極紫外光技術的品質與成本。