評析：等真的做出來，且良率夠高再來吹噓不遲！
去年底上海微電子也宣稱研發成功28奈米光刻機，事實上到現在還沒看成品。
2024/04/03 中時新聞網 邱怡萱美國持續加碼對大陸晶片禁令，這場晶片大戰持續升溫，但根據南華早報報導，大陸在新技術上已悄悄取得進展，以減少對先進ASML曝光機的依賴，讓晶片製程繼續突圍到5奈米。
報導引述消息人士說法指出，大陸本土半導體設備龍頭北方華創科技集團，在3月開始對光刻系統進行初步研究，大陸本土半導體工具製造商正在嘗試變通辦法，在沒有荷蘭巨頭ASML最新設備的情況下生產先進晶片，並打造出5奈米晶片製程。報導稱這項突破可能會實現，並挫敗美國遏制大陸晶片製造能力的企圖。
報導提到，大陸部分業者已取得初步研究進展，除了北方華創，華為在上個月申請的專利，其中「自對準四重成像」（SAQP）技術可以在矽晶圓上多次蝕刻線路，並加倍地提高電晶體密度和晶片性能。大陸企業打算藉由SAQP技術，讓晶片實質上達成5奈米的運算能力。
大陸希望靠著SAQP技術突破，利用先進程度不亞於EUV的「深紫外光微影製程」（DUV）曝光機以生產5奈米晶片。
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