ASML強敵來了？陸「菜鳥設備廠」28奈米曝光機大突破 神秘背景遭起底

評析：不要笑死人了，就算沒知識、沒常識，google一下也知道28奈米有多落後，還ASML的強敵ㄌㄟ...

首先，28奈米已經是近20年前的技術了，台積電2007年就已做出28奈米(2011年量產)，顯示對應的光刻機更早以前就有了。中國這家廠才剛「研發成功」，能不能量產都還不知道，連ASML的車尾燈都還看不到，會是ASML的強敵！！？？

其次，中國的上海微電子才是中國光刻機的一哥，去年底也曾宣稱14奈米研發成功，事實上都未經證實。據了解，目前中國真正能量產的的光刻機還停留在65奈米，但良率及自製率都還偏低，真的能穩定生產的還是只有90奈米，但中國自製率也僅能到80%！換句話說，中國還是沒能力做出100%自製的光刻機！

ASML強敵來了？陸「菜鳥設備廠」28奈米曝光機大突破 神秘背景遭起底
2025/03/29 中時新聞網 吳美觀
受美國技術封鎖影響，中國大陸無法取得艾司摩爾（ASML）最先進的極紫外光（EUV）設備。然而，成立僅4年的深圳晶片設備商新凱來，近日首度公開展示28奈米級300 毫米晶圓光刻技術，展現大陸在先進半導體設備領域的自主研發成果，引發全球產業高度關注。

綜合外媒報導，新凱來於上海SEMICON China 2025 半導體展會上，展出包含原子層沉積（ALD）、化學氣相沉積（CVD）、物理氣相沉積（PVD）、蝕刻、退火等關鍵製程的設備。儘管未展示光刻設備，但據了解，新凱來已成功研發適用於300毫米晶圓的28奈米浸潤式光刻系統，技術與國際主流設備供應商不相上下。

新凱來與華為合作開發的28奈米光刻機，主要是為了取代包括 ASML 在內的國際半導體設備大廠，提升自主性，突破美國政府對先進晶片設備的出口管制措施，被中國大陸視為先進半導體製程的救星。

半導體產業分析師王磊表示，28奈米是成熟製程與先進製程的分水嶺，也是大陸半導體設備廠商必須突破的難關。新凱來的技術突破，代表大陸的國產設備在關鍵製程領域取得了重大進展。

新凱來成立於2021年8 月，由深圳市政府資助，致力於開發半導體製造相關設備，在北京、上海、西安等地設立研發中心，並從業界挖角頂尖技術人才，網羅曾在ASML、應用材料、科林研發（Lam Research）、東京威力科創（Tokyo Electron）等國際大廠的優秀工程師。

儘管成立僅 4 年，新凱來已展現出強烈的市場企圖心，其客戶名單囊括了中芯國際、華虹集團等中國半導體產業的龍頭晶圓廠。不只如此，新凱來部分蝕刻設備已在功率半導體產線實現批量應用。

展望未來，新凱來計畫在未來3年內將研發中心拓展至10個以上的城市，更將在歐洲和東南亞設立技術服務中心，提供客戶專業支援，擴大其全球影響力。